東北大学流体科学研究所の石本淳准教授と寒川誠二教授らの研究チームは、半導体素子の製造に欠かせない洗浄行程で有害物質を不要にできる新技術を開発しました。

　現在のプラズマ照射と有害な薬剤を使う洗浄の２行程を、固体窒素の微粒子を吹き付ける１行程に置き換えます。

　本技術は洗浄プロセスにおけるプラズマ照射による配線ダメージを回避し、特に酸素ラジカルによりダメージを受けやすいデバイスに対して有効で、環境調和型のエコ洗浄技術として注目されています。

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問い合わせ先：

流体科学研究所　付属流体融合センター 実事象融合計算研究分野 　　　　　　

准教授　石本　淳 　　　　　　

TEL：022-217-5271　mail：ishimotojun*ieee.org （*を@に置き換えて下さい）

URL: http://alba.ifs.tohoku.ac.jp/